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      真空熱處理爐 小型1200℃主要用途,參數

      作者: 發布時間:2017-04-25 瀏覽次數:2068
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      主要用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。

      此款真空熱處理爐,連接有真空泵,可抽真空通惰性氣體等,專門設計用于對物料在真空狀態并通一定氣氛(如惰性氣體等)環境下進行燒結,***高溫度可以達到1800℃。此款真空熱處理爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料,以硅鉬棒或者硅碳棒為加熱元件,爐體設計是爐膛具有較好的真空密封性,爐體上安裝有氣體控制系統。


      真空熱處理爐主要用途:高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、 CVD 實驗、真空退火用的理想產品工礦企業理想的實驗和生產設備。

      · 

      真空熱處理爐詳細參數;

      · 

      產品型號

      XGM-GAZ-1

      爐  膛

      進口高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好。

      爐管尺寸

      Φ40/60/80/100/150/200mm

      加熱元件

      進口硅碳棒

      測溫元件

      S分度,單鉑銠

      控溫方式

      溫度控制系統采用人工智能調節技術,具有PID調節、自整定功能,30段升降溫程序

      密封方式

      不銹鋼法蘭擠壓密封

      標配真空度

      -0.1Mpa(如需更高真空可選購不同真空系統)

      工作溫度

      ≤1350℃

      ***高溫度

      1450℃

      恒溫精度

      ±1℃

      恒溫區長度

      200/300/400/500/600/800/1000mm(可根據客戶要求定制)

      建議升溫速度

      10-30℃/min

      額定功率

      6KW

      工作電源

      AC220V/380V    50HZ/60HZ

      標準配件

      密封法蘭1套,“O”型圈4個,管堵4個,高溫手套1副,坩堝鉤1把

      可選購附件

      爐架,供混氣系統,低、中、高真空系統,各種剛玉坩堝,剛玉管,計算機控制軟件,無紙記錄儀等。


      溫度,爐管尺寸及爐管高溫區長度均可根據客戶要求定制!


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